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全部產(chǎn)品

共215件產(chǎn)品

熱真空箱試驗箱裝配3個儀表引線孔、2個電力配線孔（用戶說明位置）、1個D.C連接孔、1個R.F連接孔，內(nèi)徑均為8英寸。試驗箱放置在一個碳鋼底座上，由管架結(jié)構(gòu)支撐（管直徑為2英寸，該設(shè)計的用意為分散箱體重量）。管架結(jié)構(gòu)帶有永久性水平腳，地墊直接鉚釘?shù)降?..

薄膜沉積系統(tǒng)

薄膜沉積系統(tǒng) Nanochrome TM II 采用了垂直“翻蓋式”箱體設(shè)計，這使得試驗箱的所有部件都很方便操作。水冷卻/加熱的痕跡（traces）加快抽水次數(shù)。在操作的同時，您可用潛望鏡裝置清晰地觀察物理氣相沉積的來源...

離子束反應(yīng)濺射系統(tǒng)

離子束反應(yīng)濺射系統(tǒng) Intlvac的Nanoquest系統(tǒng)是薄膜和材料研究的一個通用研發(fā)平臺.該系統(tǒng)是直徑為4”單基板的最優(yōu)選擇. Nanoquest平臺可允許:離子束蝕刻, 離子束濺射,離子輔助蒸發(fā),以及離子輔助濺射都在同一平臺上運...

離子束刻蝕系統(tǒng)

離子束刻蝕系統(tǒng) 離子束刻蝕系統(tǒng)：離子束刻蝕系統(tǒng)是為無塵室操作而設(shè)計的，Nanoquest II使得蝕刻模塊始終呆在無塵室的服務(wù)區(qū)內(nèi)。系統(tǒng)元件，如防護物和其他耐用部件，很容易在服務(wù)區(qū)存取。雙門蝕刻模塊可以使維修從試驗箱的任何一側(cè)開始。UHV設(shè)計...

負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng)

負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng) The INTLVAC Nanoquest I負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng)是最普遍的離子束研發(fā)平臺。可以獨立控制的離子能量，離子電流密度與入射角，離子束加工是最可控的薄膜刻蝕和沉積技術(shù)。能夠做從簡單的惰性蝕刻到一個...

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