產(chǎn)品名稱：修補劑 CHT-DISPERGATOR, RETNOL,SARABID, SARAPOL

產(chǎn)品概述：

用于修補錯染，使織物顏色亮麗、修補色花和再染色。去除粘在織物表面上的色點。

產(chǎn)品詳解：

Dispergator 分散劑N

組成: 多種用途的粉體分散劑及勻染劑
特性: CHT分散劑N是高效的分散劑。在不同的酸堿值下都具有優(yōu)良的擴(kuò)散性，被處理過的織物，其手感并無任何不良影響。
工藝: 分散染料、還原染料、金屬染料染色。
參考用量: 0.2-1 ％（o.w.f）

Dispergator 分散劑SMS

組成: 液體的陰離子的分散劑、退固劑
特性: 能徹底的清除所有因陽離子固色劑、柔軟劑引致的陽離子性。
工藝: 陽離子固色劑的退固工藝。
參考用量: 2-3 ％（o.w.f）

 
Stripping Agent  退固劑DFA

組成: 液體的陰離子退固劑
特性: 能徹底的清除所有因陽離子固色劑、柔軟劑引致的陽離子性。使用CHT退固劑DFA退固不需額外加酸或堿。
工藝: 陽離子固色劑的退固工藝。
參考用量: 1.5-2.5 ％（o.w.f）

 
FLOUREX 去熒光劑DEL

組成: 消除織物及設(shè)備上熒光效果的消光劑
特性: 消除織物上經(jīng)熒光增白后的熒光效果，及清洗被熒光增白劑沾污的機(jī)器、設(shè)備和軋車等。
工藝: 消除織物及設(shè)備上熒光效果的處理工藝。
參考用量: 處理織物：0.5-5 %(o.w.f) （浸吸），
5.0-30 g/l （浸軋）
清洗設(shè)備：0.5-15 g/l

Hansa 除硅斑劑SR 142

組成: 特殊陽離子化合物的混合物
特性: 可以除去具有耐久性能的防水或防皺有機(jī)硅涂層整理，可以除去染色設(shè)備中的硅斑，有機(jī)硅整理后的織物，經(jīng)本品處理后，可以重染
工藝: 剝除棉針織物上不均勻的有機(jī)硅整理，及進(jìn)行設(shè)備清洗。
參考用量: 處理織物：7.5 g/l
清洗設(shè)備：3.75 g/l

Egasol  修補劑H

組成: 滌綸染色的修補劑
特性: CHT修補劑H的阻染力較一般的勻染劑及修補劑低。在使用較低量時，能增加染料在纖維上的擴(kuò)散力；在使用較高用量時，能大大地促進(jìn)染料的泳移力，從而達(dá)到勻染修色的效果。
工藝: 滌綸的重染工藝。
參考用量: 0.5-2 ％（o.w.f）

 
Felosan 退軟劑DGH

組成: APEO-free、不含消泡劑的非離子表面活性劑
特性: 高溫?zé)o泡，弱堿條件下能將纖維上的柔軟劑乳化清除，令退軟后的織物重染得以順利進(jìn)行。
工藝: 柔軟劑的退軟處理。
參考用量: 1-3 ％（o.w.f）

 
Felosan 退軟劑DSA

組成: APEO-free的陰離子表面活性劑
特性: 在酸性、中性或弱堿條件下，均能將纖維上的柔軟劑乳化清除，令退軟后的織物重染得以順利進(jìn)行。
工藝: 柔軟劑的退軟處理。
參考用量: 1-2 ％（o.w.f）