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全部產(chǎn)品

共215件產(chǎn)品

熱真空箱試驗(yàn)箱裝配3個(gè)儀表引線孔、2個(gè)電力配線孔（用戶說明位置）、1個(gè)D.C連接孔、1個(gè)R.F連接孔，內(nèi)徑均為8英寸。試驗(yàn)箱放置在一個(gè)碳鋼底座上，由管架結(jié)構(gòu)支撐（管直徑為2英寸，該設(shè)計(jì)的用意為分散箱體重量）。管架結(jié)構(gòu)帶有永久性水平腳，地墊直接鉚釘?shù)降?..

薄膜沉積系統(tǒng)

薄膜沉積系統(tǒng) Nanochrome TM II 采用了垂直“翻蓋式”箱體設(shè)計(jì)，這使得試驗(yàn)箱的所有部件都很方便操作。水冷卻/加熱的痕跡（traces）加快抽水次數(shù)。在操作的同時(shí)，您可用潛望鏡裝置清晰地觀察物理氣相沉積的來源...

離子束反應(yīng)濺射系統(tǒng)

離子束反應(yīng)濺射系統(tǒng) Intlvac的Nanoquest系統(tǒng)是薄膜和材料研究的一個(gè)通用研發(fā)平臺(tái).該系統(tǒng)是直徑為4”單基板的最優(yōu)選擇. Nanoquest平臺(tái)可允許:離子束蝕刻, 離子束濺射,離子輔助蒸發(fā),以及離子輔助濺射都在同一平臺(tái) 上運(yùn)...

離子束刻蝕系統(tǒng)

離子束刻蝕系統(tǒng) 離子束刻蝕系統(tǒng)：離子束刻蝕系統(tǒng)是為無塵室操作而設(shè)計(jì)的，Nanoquest II使得蝕刻模塊始終呆在無塵室的服務(wù)區(qū)內(nèi)。系統(tǒng)元件，如防護(hù)物和其他耐用部件，很容易在服務(wù)區(qū)存取。雙門蝕刻模塊可以使維修從試驗(yàn)箱的任何一側(cè)開始。UHV設(shè)計(jì)...

負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng)

負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng) The INTLVAC Nanoquest I負(fù)載離子束蝕刻&沉積系統(tǒng)是最普遍的離子束研發(fā)平臺(tái)?？梢元?dú)立控制的離子能量，離子電流密度與入射角，離子束加工是最可控的薄膜刻蝕和沉積技術(shù)。能夠做從簡單的惰性蝕刻到一個(gè)...

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